ALD設(shè)備
機(jī)型：
ALD設(shè)備....
設(shè)備特點
? 高精度膜厚控制:薄膜厚度與循環(huán)次數(shù)相關(guān)，誤差可控制在原子級別。
? 優(yōu)異均勻性:可在大面積基底上實現(xiàn)較好的均勻性薄膜。
? 卓越保形性:對復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)(如深孔、臺階)的覆蓋率接近100%，適用于高深寬比器件。
? 低溫工藝兼容性:沉積溫度通常低于300℃，可處理熱敏感材料。
? 材料多樣性:可沉積金屬(如鋁、鈦、銅)、氧化物(如氧化鋁、氧化錫、氧化鋅、氧化鈦、氧化鉿、氧化硅)、氮化物(如氮化鈦)等多種薄膜。
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